東京エレクトロン、半導体製造の全プロセスをカバーする幅広い装置ラインナップを、SEMICON Japan 2025で紹介

東京エレクトロン株式会社は、SEMICON Japan 2025（2025年12月17日～12月19日、会場：東京ビッグサイト）に出展し、半導体製造の全プロセスをカバーする幅広い装置ラインナップをパネルにて展示紹介しました。

パソコンや携帯電話、デジタルカメラ、家電製品など、現代社会においてエレクトロニクス製品は生活するために必要不可欠な存在です。そうしたエレクトロニクス製品の心臓部というべき存在が、半導体です。東京エレクトロングループは、半導体の製造装置のリーディング・カンパニーとして、半導体の機能向上、品質維持や効率的生産による安定供給といった分野で重要な役割を担ってきました。技術革新の激しいエレクトロニクス産業の中でビジネスを展開し、半導体製造装置という、世界産業を支える最先端装置分野において国内1位、世界トップクラスの売上を誇っています。

半導体の回路を作る「前工程（FEOL）」と、配線をつなぐ「後工程（BEOL）」の膜を形成する、不要な部分を削る、表面を洗浄する、そして電気特性を検査するといった、各段階に必要な最新装置など製造の最初から最後までを一貫して支援できる総合的な技術力を、パネルで紹介しました。

EXIM™およびLEXIA™-EXはプロセスモジュールをアプリケーションに応じて自由に配置できるという特長を備え、今後さらに複雑化する半導体成膜工程においてプロセス開発から量産までの柔軟な対応が可能なPVD装置です。不揮発メモリとして注目されているSTT-MRAMなどの次世代デバイス向け多層膜工程で実績を伸ばしており、今後は優れた膜厚・膜質・膜組成の均一性と量産装置としての安定稼働性を生かし、先端Logic・DRAM・3D NANDなどへアプリケーションを拡充します。

CLEAN TRACK™ LITHIUS™シリーズは、高いシェアと実績を持つCLEAN TRACK™ ACT™シリーズで培った高い技術開発力と、最先端の研究開発の成果による最新鋭の機能を搭載した、300mmウェーハ対応塗布現像装置です。 最先端プロセスへの拡張性、高スループット、省フットプリント、OEE(Overall Equipment Efficiency)向上、CoO (Cost of Ownership)削減をメインコンセプトとしており、その高い信頼性と生産性はワールドワイドのお客さまから評価されています。 最先端の業界スタンダード装置として、最先端技術と多様なニーズに対応すべく進化し続けています。

Certas™ シリーズは、環境に優しいハイスループット型ガスケミカルエッチング装置です。高いエッチング選択性、均一性、残渣除去およびラフネス低減を実現し、先端デバイスに貢献します。